讲座时间：2025年7月14日 10:00—11:00

讲座地点：沙河校区工学楼 A 座 501 教室

讲座内容简介：

点扫描双光子激光直写技术凭借其高分辨加工能力、低热影响性、具有真三维加工能力等特点，一直是三维微纳加工与刻写技术中的研究热点。报告介绍近年来团队在点扫描超分辨成像基础上提出的光与物质共限多光子光刻技术，突破了激光直写的光学衍射极限，将刻写特征尺寸和刻写周期分别提高到30 nm和80 nm。并进一步介绍提升刻写通量的超分辨激光直写方法、技术及装备，为解决微纳制造提供一种了新途径。

主持人简介：

匡翠方 浙江大学光电学院教授，极端光学技术与仪器全国重点实验室副主任。主要从事超分辨显微成像、超分辨光刻相关研究。

主办单位：仪器科学与光电工程学院

联系方式：司老师 13810762633